水冷抛光机包括底座、7906、抛光布、抛光盖和盖的基本组成部分。电机固定在底座上，固定盘与电机轴连接。抛光织物通过对研磨盘电机通过电源开关的基础开始后紧固套圈，对样品施加的压力在抛光盘抛光旋转可用手。抛光过程中加入的抛光液通过固定在塑料排水管底板在水下抛光机的方盘。抛光罩和盖可以防止抛光织物上的灰尘和其它杂物，而不在使用时的效果。

水冷式抛光机操作的关键是要尽量获得最大的抛光速度，以便尽可能快地去除损坏的层。同时，它也是为了使抛光损伤层不会影响最终观察组织，即不会造成假组织。前者要求采用粗磨粒，以保证抛光速度有较大的去除，但抛光损伤层较深；后者则要求使用最优质的材料，使抛光损伤层较浅，但抛光率低。解决这个问题的最好办法就是把抛光分为2个阶段。粗抛光的目的是去除抛光损伤层，这一阶段应具有最大的抛光速率，表面损伤是次要考虑，但也应尽可能小；二是抛（或结束），目的是去除表面损伤，使抛光损害最小。

当水冷抛光机时，磨面和抛光盘应绝对平行，并均匀地轻压在抛光盘上，注意防止试样飞出，压力过大，产生新的磨削痕迹。同时，要避免在织物上的局部磨损，在旋转的旋转轮和半径的移动。湿度太过一般会削弱抛光磨痕和试样在硬质相显示浮雕和钢中的非金属夹杂物在钢和铸铁石墨相“尾随”现象；湿度过小，由于摩擦热会使样品温度，减少润滑，研磨失去光泽，甚至点，轻合金会伤害表面抛光。

为了达到粗抛的目的，转盘的速度要求较低，最好不要超过500r/min；抛光时间应当比去掉划痕的时间更长，因为它也有必要消除变形层。经过水冷抛光机的打磨光，但在显微镜下用强烈的黑暗无光，穿上均匀，抛光被淘汰。精细抛光适当增加速度刻度盘，抛光时间，以除去损坏的粗糙抛光层是适当的。经过精磨抛光后，它就亮如镜，在明场显微镜下的情况下看不到划痕，但在对比的照明条件下，仍能看到磨痕。